Введите подробные характеристики товара (например, цвет, размер, материалы и т. д.) и другие конкретные требования, чтобы получить точную цену.
оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.
1

Лабораторный вакуумный плазменный очиститель объемом 25 л с 7-дюймовым сенсорным экраном ПЛК.

HY-EL25H — это лабораторная система плазменной обработки, широко используемая научно-исследовательскими институтами, корпоративными отделами НИОКР и мелкосерийными пилотными производственными линиями. В ней применяется технология разряда с емкостной связью плазмы (CCP). Полная система состоит из квадратной вакуумной камеры из нержавеющей стали, плазменного генератора, вакуумного насоса и входных и выходных патрубков для газа.

Это оборудование эффективно повышает адгезию поверхности подложки и улучшает ее гидрофильность, находя широкое применение в процессах склеивания материалов, нанесения покрытий, осаждения пленок на подложку и склеивания пластин. Данное оборудование обеспечивает стабильную и воспроизводимую плазменную обработку для проектов в области полупроводников, микрофлюидики и исследований новых материалов.

  • Бренд :

    HYRNUS
  • Номер изделия. :

    HY-EL25H
  • Минимальный объем заказа (MOQ) :

    1 Set
  • Гарантия :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Оплата :

    T/T
  • Время выполнения :

    7-35 Days
  • Происхождение продукта :

    China
  • Лабораторный вакуумный плазменный очиститель объемом 25 л с 7-дюймовым сенсорным экраном ПЛК.

    Введение в продукт

    NE-PE25H Вакуумная плазменная очистительная машина Идеально подходит для университетских исследовательских лабораторий, научно-исследовательских центров предприятий и мелкосерийного производства. Оснащенная квадратной вакуумной камерой из нержавеющей стали, изготовленной с использованием сварки военного класса, интегрированными двухслойными электродами, двумя независимыми газовыми каналами и передней открывающейся конструкцией с задней циркуляцией отработанного газа, машина обеспечивает равномерный забор газа и превосходную коррозионную стойкость. Удобный сенсорный экран поддерживает мониторинг параметров в реальном времени, позволяет сохранять многогрупповые технологические рецепты с полной отслеживаемостью данных и исключает необходимость в дополнительном газосмесителе для тестирования различных соотношений газов.

    Эта плазменная система значительно повышает адгезию и гидрофильность подложки, обеспечивая стабильную и воспроизводимую обработку для основных процессов, включая очистку от органических загрязнений, модификацию поверхности на гидрофильные/гидрофобные свойства, прецизионное микротравление, склеивание микрофлюидных чипов из ПДМС и удаление фоторезиста. Она широко применяется в процессах склеивания материалов, нанесения покрытий, осаждения пленок на подложки и во всех видах исследований новых полупроводниковых материалов.

    Применение продукта

    1. Очистка: Удаление органических остатков, оксидов, солей металлов и наночастиц.

    2. Активация: Коррекция гидрофильных/гидрофобных свойств, повышение поверхностной энергии, прививка функциональных групп и улучшение биосовместимости.

    3. Травление: формирование рисунка на поверхности, микротравление и контролируемая регулировка морфологии и шероховатости поверхности.

    4. Склеивание: Герметичное склеивание для ПДМС и других микрофлюидных чипов.

    5. Удаление фоторезиста: удаление фоторезиста и нижнего антиотражающего покрытия.

     

    25L Vacuum Plasma Cleaning

     

    Характеристики продукта

    1. Вакуумная камера из нержавеющей стали, изготовленная с использованием сварки военного класса, отличается превосходной герметичностью и отличной коррозионной стойкостью.

    2. Встроенные два слоя электродов и многослойные технологические лотки значительно улучшают использование пространства.

    3. Удобный сенсорный интерфейс, отображающий параметры процесса в режиме реального времени.

    4. Поддерживает сохранение нескольких технологических рецептов для вызова одним щелчком мыши, с полностью отслеживаемыми данными о работе.

    5. Оснащен двумя независимыми газовыми каналами; не требует дополнительного смесителя газов, удобен для тестирования различных составов газовых смесей.

    6. Конструкция с открывающейся спереди дверцей и задним выхлопом обеспечивает внутреннюю динамическую циркуляцию газа. Равномерный приток воздуха гарантирует стабильные результаты очистки.

    Схема расположения оборудования и диаграмма вакуумной камеры.

     

    Vacuum Plasma Chamber

     

    Технические характеристики

     
    Нет.КатегорияСпецификацияПараметр
    1Генератор плазмыВласть0–1000 Вт, плавная регулировка.
    Частота40 кГц
    2Вакуумная реакционная камераМатериал камерыИмпортная зеркальная нержавеющая сталь марки 316 с защитным покрытием военного класса.
    Объем камеры380 (Ш) × 390 (Г) × 170 (В) мм; 25 л
    Эффективное пространство обработки333 (Ш) × 320 (Г) мм
    3Разрядные электродыЭлектроды3 электрода из специального высокопроводящего алюминиевого сплава.
    Слои обработки2 слоя
    Режим разрядаЕмкостной связанный плазменный реакционный разряд CCP
    Расстояние между положительными и отрицательными электродами50 мм
    Зазор между лотком и поддоном30 мм
    4Управление газовым трактомРегулятор массового расхода300 SCCM
    Проектирование газовых контуровДвусторонняя равномерная конструкция воздухозаборника обеспечивает стабильные результаты очистки и травления.
    Газовые каналы2 газовые линии, совместимые с O₂, Ар, Н, H, и т. д.
    (Сообщите нам заранее, если потребуется коррозионный газ)
    5Измерение вакуумаСистема измерения вакуумаДиапазон измерения: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Па
    Точность измерения: 0,1 Па
    6Насосная системаВакуумный насос16 м³/ч
    Вакуумный трубопроводТрубы из нержавеющей стали + пневматические клапаны
    7Система управленияРежим управленияПЛК
    Сенсорный экран7-дюймовая сенсорная панель
    Программное обеспечениеРазработанная собственными силами запатентованная система управления плазмой
    8Условия на площадкеИсточник питания220 В, 50/60 Гц, 13 А
    Соединитель газопроводаΦ6 мм
    Требуемая чистота газа99,99%
    Давление газа на входе0,3–0,6 МПа
    Выпускной патрубокфланец KF25
    9Общие технические характеристики машиныГабаритные размеры650 мм (Д) × 649 мм (Ш) × 666 мм (В)
    Вес нетто80 кг
    Общее энергопотребление3 кВт

     

    Условия эксплуатации (материалы, которые должны быть подготовлены заказчиком)

     

    Нет.ЭлементТребования
    1Состояние электроснабжения и электросетиВходное напряжение: 220 В, 50/60 Гц; допустимые колебания напряжения в сети ±10%. Защитный заземляющий провод должен соответствовать международным стандартам. Вблизи места установки оборудования не должно быть сильных электромагнитных помех.
    2Условия окружающей среды при установкеТемпература окружающей среды: 0–40 °C; относительная влажность: 15–60%.
    3Подготовка источника газаГазовые баллоны с кислородом, аргоном, азотом, водородом и т. д. (должны быть оборудованы редукционными клапанами). Давление газа на входе > 0,3 МПа; Диаметр газового фитинга: Φ6 мм.
    4Вытяжной каналПодсоедините к выпускному патрубку вакуумного насоса (обязательно для использования в чистых помещениях).
     

    Подробная информация о товаре

      •  

    Vacuum plasma surface treatment machine
    25L Vacuum Plasma Cleaning MachineCCP Capacitively Coupled Plasma System
     
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.

оставить сообщение

оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.
Связаться с нами :allen@hyrnus.com