
Введение в продукт
HY-ES10 — это Компактный вакуумный плазменный очиститель мощностью 0–300 Вт с плавной регулировкой мощности. Разработан для университетов, научно-исследовательских институтов, корпоративных лабораторий НИОКР и мелкосерийного прототипирования. Используя проверенную и надежную технологию генерации плазмы с емкостной связью (CCP), установка имеет интегрированную конструкцию «все в одном», включающую вакуумную реакционную камеру, генератор плазмы, вакуумный насос, многоканальную прецизионную газовую цепь и интеллектуальную систему управления ПЛК.
Благодаря низкотемпературной плазменной технологии, установка выполняет различные процессы, включая очистку поверхности, активацию, микротравление, склеивание пластин и удаление фоторезиста. Она значительно повышает адгезию материала к поверхности и изменяет гидрофильные или гидрофобные свойства, являясь универсальным оборудованием для предварительной обработки при процессах склеивания материалов, нанесения покрытий и осаждения пленок на подложку.

Применение продукта
1. Очистка: удаление органических веществ, оксидов, солей металлов, наночастиц и т. д.
2. Активация: гидрофильная/гидрофобная модификация, улучшение поверхностной энергии, прививка функциональных групп, оптимизация биосовместимости и т. д.
3. Травление: формирование рисунка на поверхности, микротравление, регулировка морфологии и шероховатости поверхности и т. д.
4. Склеивание: Склеивание микрофлюидных устройств, таких как чипы из полидиметилсилоксана (PDMS).
5. Удаление фоторезиста: озоление фоторезиста, удаление нижнего антиотражающего покрытия (BARC) и т. д.


Характеристики продукта
1. Вакуумная камера из нержавеющей стали, сваренная по военному стандарту, отличается превосходной герметичностью и выдающейся коррозионной стойкостью.
2. Оснащен двумя встроенными электродами и многослойными технологическими лотками для максимального использования пространства.
3. Интуитивно понятный сенсорный интерфейс пользователя (HMI) для удобного управления, отображающий параметры процесса в режиме реального времени.
4. Поддерживает хранение нескольких технологических рецептов для вызова одним щелчком мыши, обеспечивая полную отслеживаемость данных.
5. Для проведения исследований влияния различных соотношений газов на результаты очистки предусмотрены два независимых газовых канала.
6. Конвекционная система распределения газа обеспечивает динамическую циркуляцию газа во время работы с равномерным притоком воздуха, что гарантирует превосходную эффективность очистки.

Схема расположения оборудования и диаграмма вакуумной камеры.


Технические характеристики
| Нет. | Категория | Название товара | Параметры |
| 1 | Генератор плазмы | Власть | 0–300 Вт, плавная регулировка. |
| Частота | 40 кГц |
| 2 | Вакуумная реакционная камера | Материал камеры | Импортная нержавеющая сталь марки 316 с уплотнением военного класса. |
| Объем камеры | 10,8 л |
| Размеры камеры | 200 (Ш) × 270 (Г) × 200 (В) мм |
| Эффективная зона обработки одного слоя | 176 (Ш) × 210 (Г) мм |
| Количество электродов | 2 позолоченных электрода из алюминиевого сплава, предназначенных для специальных целей. |
| Слои обработки | 3 слоя |
| Расстояние между слоями однослойной высоты | Высота: 35 мм |
| 3 | Система управления газом | Регулятор расхода газа | 500 SCCM |
| Количество газовых каналов | 2 независимых канала, совместимых с O₂, Ар, Н₂, H₂, и т. д. |
| (Сообщите нам заранее, если потребуется коррозионный газ) |
| 4 | Измерение вакуума | Система измерения вакуума | Диапазон измерения: 5×10⁻² ~ 1,0×10⁵ Па |
| Точность измерения: 0,1 Па |
| 5 | Насосная система | Вакуумный насос | Скорость перекачки: 16 м³/ч |
| Вакуумный трубопровод | Трубопровод из нержавеющей стали + пневматические клапаны |
| 6 | Система управления | Сенсорный экран | 7 дюймов |
| Режим управления | ПЛК |
| Мониторинг в реальном времени | Мощность, продолжительность работы |
| Программное обеспечение | Разработанная нами запатентованная система управления плазмой, автоматический/ручной режим, мониторинг ввода-вывода. |
| Функция сигнализации | Вакуумная защита от неправильного использования |
| Функция балансировки давления | Поддерживает подачу технологического газа с регулируемым временем предварительной балансировки. |
| 7 | Требования к коммунальным услугам | Источник питания | 220 В 50/60 Гц 9 А |
| Интерфейс газопровода | Диаметр: 6 мм |
| Чистота газа | 99,99% |
| Давление газа | 0,4–0,6 МПа |
| Выпускной патрубок | KF25 |
Условия эксплуатации (материалы, которые должны быть подготовлены заказчиком)
| Нет. | Категория | Требования |
| 1 | Источник питания | Входное напряжение сети: 220 В, 50/60 Гц, колебания напряжения ±10%; заземляющий провод должен соответствовать международным стандартам; вблизи места установки отсутствуют сильные электромагнитные помехи. |
| 2 | Условия установки | Температура окружающей среды: 0–40 °C; относительная влажность окружающей среды: 15–60%. |
| 3 | Подача газа | Газовые баллоны для O₂, Ар, Н₂, H₂ и т. д. (должен быть оборудован регулятором давления); входное давление >0,3 МПа; размер соединителя газовой трубы: Φ6 мм. |
| 4 | Выхлопная труба | Подсоедините к выпускному патрубку вакуумного насоса (обязательно, если насос установлен в чистых/беспыльных помещениях). |