Введите подробные характеристики товара (например, цвет, размер, материалы и т. д.) и другие конкретные требования, чтобы получить точную цену.
оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.
1

Компактный вакуумный плазменный очиститель мощностью 0–300 Вт с плавной регулировкой мощности для лабораторных исследований и разработок.

HY-ES10 Это экспериментальная система плазменной обработки, широко используемая научно-исследовательскими институтами, университетами, корпоративными научно-исследовательскими лабораториями и на линиях мелкосерийного производства. В системе используется технология разряда с емкостной связью плазмы (CCP). Вся система состоит из вакуумной камеры, генератора плазмы, вакуумного насоса, а также входных и выходных патрубков для газа. Камера обработки изготовлена ​​из квадратной нержавеющей стали.

  • Бренд :

    HYRNUS
  • Номер изделия. :

    HY-ES10
  • Минимальный объем заказа (MOQ) :

    1 Set
  • Гарантия :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Оплата :

    T/T
  • Время выполнения :

    7-35 Days
  • Происхождение продукта :

    China
  • Компактный вакуумный плазменный очиститель мощностью 0–300 Вт с плавной регулировкой мощности для лабораторных исследований и разработок.

    Введение в продукт

    HY-ES10 — это Компактный вакуумный плазменный очиститель мощностью 0–300 Вт с плавной регулировкой мощности. Разработан для университетов, научно-исследовательских институтов, корпоративных лабораторий НИОКР и мелкосерийного прототипирования. Используя проверенную и надежную технологию генерации плазмы с емкостной связью (CCP), установка имеет интегрированную конструкцию «все в одном», включающую вакуумную реакционную камеру, генератор плазмы, вакуумный насос, многоканальную прецизионную газовую цепь и интеллектуальную систему управления ПЛК.

    Благодаря низкотемпературной плазменной технологии, установка выполняет различные процессы, включая очистку поверхности, активацию, микротравление, склеивание пластин и удаление фоторезиста. Она значительно повышает адгезию материала к поверхности и изменяет гидрофильные или гидрофобные свойства, являясь универсальным оборудованием для предварительной обработки при процессах склеивания материалов, нанесения покрытий и осаждения пленок на подложку.

    Применение продукта

    1. Очистка: удаление органических веществ, оксидов, солей металлов, наночастиц и т. д.

    2. Активация: гидрофильная/гидрофобная модификация, улучшение поверхностной энергии, прививка функциональных групп, оптимизация биосовместимости и т. д.

    3. Травление: формирование рисунка на поверхности, микротравление, регулировка морфологии и шероховатости поверхности и т. д.

    4. Склеивание: Склеивание микрофлюидных устройств, таких как чипы из полидиметилсилоксана (PDMS).

    5. Удаление фоторезиста: озоление фоторезиста, удаление нижнего антиотражающего покрытия (BARC) и т. д.

     

    Plasma processing application

     

    Характеристики продукта

    1. Вакуумная камера из нержавеющей стали, сваренная по военному стандарту, отличается превосходной герметичностью и выдающейся коррозионной стойкостью.

    2. Оснащен двумя встроенными электродами и многослойными технологическими лотками для максимального использования пространства.

    3. Интуитивно понятный сенсорный интерфейс пользователя (HMI) для удобного управления, отображающий параметры процесса в режиме реального времени.

    4. Поддерживает хранение нескольких технологических рецептов для вызова одним щелчком мыши, обеспечивая полную отслеживаемость данных.

    5. Для проведения исследований влияния различных соотношений газов на результаты очистки предусмотрены два независимых газовых канала.

    6. Конвекционная система распределения газа обеспечивает динамическую циркуляцию газа во время работы с равномерным притоком воздуха, что гарантирует превосходную эффективность очистки.

    Схема расположения оборудования и диаграмма вакуумной камеры.

     

    Machine Outline Drawing and Vacuum Chamber Diagram

     

    Технические характеристики

     
    Нет.КатегорияНазвание товараПараметры
    1Генератор плазмыВласть0–300 Вт, плавная регулировка.
    Частота40 кГц
    2Вакуумная реакционная камераМатериал камерыИмпортная нержавеющая сталь марки 316 с уплотнением военного класса.
    Объем камеры10,8 л
    Размеры камеры200 (Ш) × 270 (Г) × 200 (В) мм
    Эффективная зона обработки одного слоя176 (Ш) × 210 (Г) мм
    Количество электродов2 позолоченных электрода из алюминиевого сплава, предназначенных для специальных целей.
    Слои обработки3 слоя
    Расстояние между слоями однослойной высотыВысота: 35 мм
    3Система управления газомРегулятор расхода газа500 SCCM
    Количество газовых каналов2 независимых канала, совместимых с O, Ар, Н, H, и т. д.
    (Сообщите нам заранее, если потребуется коррозионный газ)
    4Измерение вакуумаСистема измерения вакуумаДиапазон измерения: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Па
    Точность измерения: 0,1 Па
    5Насосная системаВакуумный насосСкорость перекачки: 16 м³/ч
    Вакуумный трубопроводТрубопровод из нержавеющей стали + пневматические клапаны
    6Система управленияСенсорный экран7 дюймов
    Режим управленияПЛК
    Мониторинг в реальном времениМощность, продолжительность работы
    Программное обеспечениеРазработанная нами запатентованная система управления плазмой, автоматический/ручной режим, мониторинг ввода-вывода.
    Функция сигнализацииВакуумная защита от неправильного использования
    Функция балансировки давленияПоддерживает подачу технологического газа с регулируемым временем предварительной балансировки.
    7Требования к коммунальным услугамИсточник питания220 В 50/60 Гц 9 А
    Интерфейс газопроводаДиаметр: 6 мм
    Чистота газа99,99%
    Давление газа0,4–0,6 МПа
    Выпускной патрубокKF25

     

    Условия эксплуатации (материалы, которые должны быть подготовлены заказчиком)

     

    Нет.КатегорияТребования
    1Источник питанияВходное напряжение сети: 220 В, 50/60 Гц, колебания напряжения ±10%; заземляющий провод должен соответствовать международным стандартам; вблизи места установки отсутствуют сильные электромагнитные помехи.
    2Условия установкиТемпература окружающей среды: 0–40 °C; относительная влажность окружающей среды: 15–60%.
    3Подача газаГазовые баллоны для O, Ар, Н, H и т. д. (должен быть оборудован регулятором давления); входное давление 0,3 МПа; размер соединителя газовой трубы: Φ6 мм.
    4Выхлопная трубаПодсоедините к выпускному патрубку вакуумного насоса (обязательно, если насос установлен в чистых/беспыльных помещениях).

     

    Подробная информация о товаре

      •  

    Compact Vacuum Plasma Treatment System
    0–300W Adjustable Plasma Cleaning Machine Compact Vacuum Plasma Cleaner
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.

оставить сообщение

оставить сообщение
Если вас заинтересовала наша продукция и вы хотите узнать больше подробностей, пожалуйста, оставьте сообщение здесь, мы ответим вам как можно скорее.
Связаться с нами :allen@hyrnus.com