Настольный вакуумный плазменный очиститель с кварцевой камерой объемом 2,5 л для лабораторных исследований методом индуктивно связанной плазмы (ICP)

Введение в продукт

HY-EB03H Настольный вакуумный плазменный очиститель с кварцевой камерой объемом 2,5 л и индуктивно связанной плазмой. Это компактная система плазменной обработки поверхностей, разработанная специально для университетских исследовательских лабораторий, научно-исследовательских центров предприятий и мелкосерийного пилотного производства. Система, оснащенная цилиндрической кварцевой камерой для обработки, включает в себя генератор ВЧ-плазмы, вакуумный насос и два независимых входных и выходных патрубка для газа. Благодаря использованию технологии индуктивно связанной плазмы (ICP), она способна стабильно производить однородную плазму высокой плотности.

Это оборудование эффективно улучшает адгезию к поверхности подложки и оптимизирует гидрофильность поверхности, и широко применяется для склеивания микрофлюидных чипов из ПДМС, нанесения покрытий на материалы, осаждения тонких пленок, удаления фоторезиста и полного спектра процессов модификации поверхности материалов.

Применение продукта

Характеристики продукта

1. Вакуумная камера изготовлена ​​из кварцевого стекла, легко чистится и не загрязняет образцы.

2. Оснащен твердотельным ВЧ-плазменным генератором с частотой 13,56 МГц и автоматической настройкой согласования импеданса, обеспечивающим превосходную стабильность и повторяемость.

3. Панель управления имеет эргономичную конструкцию с наклоном на 30°, что обеспечивает удобство в использовании и простой пользовательский интерфейс.

4. Два независимых газовых канала, оснащенных регуляторами массового расхода, позволяют точно устанавливать и регулировать скорость потока газа, что облегчает исследования влияния различных соотношений газов на результаты обработки.

5. Технология генерации индуктивно связанной плазмы (ICP) позволяет получать плазму высокой плотности.

Схема расположения оборудования и диаграмма вакуумной камеры.

 

 

Технические характеристики

 

Нет.	Элемент	Спец.	Параметр
1	Генератор плазмы	Выходная мощность твердотельного преобразователя	Плавная регулировка мощности от 0 до 15 Вт, стандартный синусоидальный выходной сигнал, стабильность ≤±0,5%; защита от перенапряжения, перегрузки по току, перегрева и отраженной мощности.
		Рабочая частота	Твердотельный источник питания ВЧ-сигнала 13,56 МГц
		Согласование импедансов	Высокоскоростное автоматическое сопоставление за 0,1 с, поддержка сетевой связи.
2	Вакуумная реакционная камера	Материал камеры	Термостойкое кварцевое стекло
		Объем камеры	2,5 л
		Лоток для образцов	Параллельный стеклянный поднос
		Размеры цилиндрической камеры	Φ105×300 (D) мм
3	Управление газовым трактом	Регулятор массового расхода	300 SCCM
		Газовые каналы	2 независимые газовые линии, совместимые с O₂₂, Ар, Н₂, H₂, и т. д.
			Пожалуйста, сообщите нам заранее, если требуется использование коррозионного газа.
4	Измерение вакуума	Система измерения вакуума	Диапазон измерения: 5×10⁻² ~ 1,0×10⁵ Па
			Точность измерения: 1 Па
5	Насосная система	Вакуумный насос	8 м³/ч
6	Система управления	Сенсорный экран	7 дюймов
		Элементы мониторинга в реальном времени	Выходная мощность, уровень вакуума, расход газа, время обработки и т. д.
		Режим управления	ПЛК-управление
		Программное обеспечение управления	Разработанная нами запатентованная система управления плазмой с 3-уровневым доступом; автоматический и ручной режимы, настройка параметров рецепта, сохранение и вызов, запрос истории аварийных сигналов, мониторинг сигналов ввода-вывода.
		Функции защиты от тревоги	Сигнализация защиты от вакуума, сигнализация защиты от тлеющего разряда, сигнализация защиты от перегрузки по мощности.
		Функция балансировки давления	Поддерживает подачу технологического газа для выравнивания давления, продолжительность балансировки регулируется.
7	Условия эксплуатации объекта	Источник питания	220 В ± 10% 50/60 Гц 9 А
		Фитинг для газовой трубы	порт диаметром 6 мм
		Требуемая чистота газа	99,99%
		Давление газа на входе	0,4–0,6 МПа
		Выпускной патрубок	фланцевый интерфейс KF25
8	Общие параметры машины	Суммарная мощность машин	≤ 2 кВт
		Габаритные внешние размеры	551,5 мм (Д) × 480 мм (Ш) × 546,5 мм (В)

 

Условия эксплуатации (материалы, которые должны быть подготовлены заказчиком)

 

Нет.	Элемент	Требования
1	Источник питания и номинальная мощность	Входное напряжение сети: 220 В, 50/60 Гц, допустимые колебания напряжения в сети ±10%; заземляющий провод должен соответствовать международным стандартам. В районе установки оборудования не должно быть сильных электромагнитных помех.
2	Среда установки	Температура окружающей среды: 0–40 °C; относительная влажность: 15–60%.
3	Подготовка источника газа	Газовые баллоны для O₂, Ар, Н₂, H₂и т. д. (должны быть оборудованы редукционными клапанами). Давление входящего газа ＞0,3 МПа; диаметр патрубка газопровода: Φ6 мм
4	Вытяжной канал	Подсоедините к выпускному патрубку вакуумного насоса (обязательно для использования в чистых помещениях).