Оборудование для плазменной очистки

HY-ES10 Это экспериментальная система плазменной обработки, широко используемая научно-исследовательскими институтами, университетами, корпоративными научно-исследовательскими лабораториями и на линиях мелкосерийного производства. В системе используется технология разряда с емкостной связью плазмы (CCP). Вся система состоит из вакуумной камеры, генератора плазмы, вакуумного насоса, а также входных и выходных патрубков для газа. Камера обработки изготовлена ​​из квадратной нержавеющей стали.

HY-AD800 обеспечивает безопасную обработку деликатных микросхем, печатных плат и пластиковых компонентов без термической деформации. Благодаря регулируемой мощности от 0 до 800 Вт, двойному режиму работы (ввод-вывод/ручной) и полной защите, его легко интегрировать в автоматизированные производственные линии для очистки поверхности, активации и улучшения склеивания, что делает его идеальным решением для упаковки полупроводников, 3C-электроники, автомобильной промышленности, возобновляемой энергетики и производства светодиодов.